高性能／穩定性／壽命長

• 原料為超純水電解產生的乾淨臭氧氣體。
• 可提供100 mg/L以上的高臭氧水濃度和80 L/min以上的臭氧水流速。
• 臭氧水濃度和流量，可依客戶需求調整。
• 設計精巧，節省空間。
• 臭氧產生器與增壓幫浦，可達到高排放壓力。
• 搭載快速啟動機制，可在開始運轉後，三分鐘內達到設定的有效濃度。

清洗機建議濃度與流量：

• [批次清洗機]：建議使用高濃度/大流量
• [單層式清洗機]：建議使用高濃度/小流量
• [連續噴淋式清洗機]：建議使用低濃度/大流量

• 矽晶圓製造業：入矽前清洗、離子植入前清洗、平面化後清洗、純水線消毒。
• 半導體製造業：進口晶圓清洗、沉積前清洗、抗光劑殘留清除、抗光劑清除、純水線消毒、CMP 後清洗。
• LCD 製造：進口玻璃基板清洗、沉積前清洗、純水線消毒。

1. 電源（檢查電壓和頻率）

2. 純水（17 MΩ-cm或以上的超純水/水溫25°C或更低/所含過氧化氫濃度50 ppb或以下)

3. 冷卻水（23°C ± 3°C）

4. 控制空氣 (0.5-0.7 MPa)

5. 熱排氣管

6. 排水管道 (自然排放或強制排放)